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[00276900]精制钼深度除钨(一步法)

交易价格: 面议

所属行业: 化工生产

类型: 发明专利

技术成熟度: 已有样品

专利所属地:中国

专利号:CN

交易方式: 完全转让 许可转让

联系人: 刘老师

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等级:

所在地:北京北京

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

  精制钼深度除钨(一步法)

  钼钨分离一直是困扰钼、钨冶金工业多年的世界性难题,钼、钨同属化学元素周期表同一副族,性质极其相似,离子半径接近,络合能力等化学性质也相似,很难将二者高效分离。

  从钨中分离钼前人已经总结出很多方法,但是从钼中分离钨鲜有报道。随着钼粉在电子信息行业的应用发展,对钼粉的质量要求越来越严格,如4N、5N钼粉要求杂质含量≤100ppm、10ppm,一般的轻金属杂质较易从钼粉、钼制品分离,分离钨杂质较困难,一种较易实现的方法是从其前端——氧化钼或钼酸盐中去除钨,前人根据钼钨与S2-形成硫代酸根离子性质差异、与二价金属离子沉淀差异,总结出酸沉法、氢氧化铁吸附法、萃取法、沉淀法、压煮法、离子交换法等方法,这些方法虽有一定效果,但存在钼损耗高、回收率低,分离效果差,不能深度除钨的缺点。

  本发明提供一种简便方法从钼中深度除钨,无需改变温度、压力,可将钼中钨一步降低至1ppm,钼几乎无损耗。

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