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[00292354]二阶非线性光学晶体K2SbF2Cl3及其制备方法和应用

交易价格: 面议

所属行业: 合成化学

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:201510332818.8

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 武汉大学

进入空间

所在地:湖北武汉

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

本发明公开了一种无机晶体化合物K2SbF2Cl3及其制备方法和作为二阶非线性光学晶体材料的应用。其晶体空间群为P212121,晶胞参数为α=β=γ=90°,Z=4,光学带隙为4.01eV,其粉末倍频效应为磷酸二氢钾的4倍,粉末的红外透光范围达到14微米。本发明以KF和SbCl3为起始反应物,采用水热法制备得到无机晶体化合物K2SbF2Cl3。该无机晶体化合物有较强的可相位匹配的二阶非线性光学效应;在可见光区和中红外光区有很大的透光窗口;具有较大的带隙和热稳定性;合成方法操作简单、原料利用率高、实验条件温和、产品纯度高;该晶体材料能广泛应用于光学领域。
本发明公开了一种无机晶体化合物K2SbF2Cl3及其制备方法和作为二阶非线性光学晶体材料的应用。其晶体空间群为P212121,晶胞参数为α=β=γ=90°,Z=4,光学带隙为4.01eV,其粉末倍频效应为磷酸二氢钾的4倍,粉末的红外透光范围达到14微米。本发明以KF和SbCl3为起始反应物,采用水热法制备得到无机晶体化合物K2SbF2Cl3。该无机晶体化合物有较强的可相位匹配的二阶非线性光学效应;在可见光区和中红外光区有很大的透光窗口;具有较大的带隙和热稳定性;合成方法操作简单、原料利用率高、实验条件温和、产品纯度高;该晶体材料能广泛应用于光学领域。

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